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Gillet_87591100_2016.pdf
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- La caractérisation mécanique de matériaux aux échelles nanoscopiques nécessite des méthodes de mise sous contrainte et d'analyse adaptées. Ce travail s'oriente sur les essais de traction uni-axiale de films minces relâchés et d'une épaisseur de l'ordre de quelques dizaines de nanomètres. Le relâchement de ces structures est effectué par des gravures de couches sacrificielles en silicium au travers d'une gravure sèche et isotrope faisant usage de XeF2. Un design original de ces échantillons est proposé en vue de faciliter leur manipulation, et afin d'éviter toute contamination liée à l'usinage FIB. Ce travail ouvre la voie vers de l'observation directe et de la compréhension aux échelles atomiques du comportement mécanique de films minces sous contrainte uni-axiale, grâce à la possibilité de réaliser ces déformations au sein d'un TEM.